特許
J-GLOBAL ID：200903084364197440
パターン寸法測定装置及びその方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-105492
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317414
出願日： 1993年05月06日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】 パターンの寸法測定における測定精度の向上と走査性の向上を図ったパターン寸法測定装置及び方法を提供することを目的とする。【構成】 濃淡画像データを空間フィルタリング処理する手段1と、空間フィルタリング処理後の画像データをヒストグラム処理する手段3と、ヒストグラム処理結果を基にパターン位置に対応したピークを検出してしきい値を求める手段5と、しきい値を基に空間フィルタリング処理後の画像データを3値化処理する手段7と、3値化処理後の画像データを基にパターン底部の面積及び周囲長を求める第1の演算手段9と、パターン底部の面積及び周囲長を基に各パターンの径を求める第2の演算手段11と、当該パターンが円形状か楕円形状かを自動的に判断し、円形状であれば該円の直径を算出し、楕円形状であれば該楕円の半長径及び半短径を算出する手段13とを有して構成する。
請求項（抜粋）：
濃淡画像データを空間フィルタリング処理するフィルタリング処理手段と、前記空間フィルタリング処理後の画像データをヒストグラム処理するヒストグラム処理手段と、前記ヒストグラム処理結果を基にパターン位置に対応したピークを検出すると同時に、しきい値を求めるピーク検出手段と、前記しきい値を基に前記空間フィルタリング処理後の画像データを3値化処理する3値化処理手段と、前記3値化処理後の画像データを基にパターン底部の面積及び周囲長を求める第1の演算手段と、前記パターン底部の面積及び周囲長を基に各パターンの径を求める第2の演算手段と、前記パターン径を基に当該パターンが円形状か楕円形状かを自動的に判断し、円形状であれば前記面積値を基に該円の直径を算出し、楕円形状であれば前記面積値及び周囲長を基に該楕円の半長径及び半短径を算出するパターン形状認識手段と、を有することを特徴とするパターン寸法測定装置。
IPC (3件)：
G01B 11/24
, G06F 15/62 405
, G06F 15/70 330
