積層薄膜の製造装置とそれを用いた積層薄膜の作製方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-143824
公開番号（公開出願番号）：特開平9-324267
出願日： 1996年06月06日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：

【要約】【課題】1層の厚みがいかに大きくなってもスパッタ蒸着に必要なパワーを大幅に変化させることなく、積層膜を構成する薄膜物質に適したパワーをかけ、高品質の積層膜を作製できる積層薄膜の製造装置とその作製方法を提供する。【解決手段】真空室と、ガス導入系と、排気系と、複数のスパッタ蒸着源と、各スパッタ蒸着源に対応した複数のシャッタと、各シャッタの開閉を行うシャッタ駆動源と、蒸着源に対向配置して、スパッタ蒸着により複数の薄膜を形成する基板を搭載する基板ホルダを少なくとも備えた積層薄膜の製造装置であって、基板ホルダを往復移動させるガイド機構と、基板ホルダを往復移動させる基板ホルダ駆動源と、基板ホルダの往復移動を検出するセンサと、センサの検出情報に基づいて、シャッタ駆動源および基板ホルダ駆動源の作動を制御する制御手段を備えた積層薄膜の製造装置とそれを用いた積層薄膜の作製方法。

請求項（抜粋）：

真空室と、ガス導入系と、排気系と、複数のスパッタ蒸着源と、各スパッタ蒸着源に対応した複数のシャッタと、各シャッタの開閉を行うシャッタ駆動源と、蒸着源に対向配置して、スパッタ蒸着により複数の薄膜を形成する基板を搭載する基板ホルダを少なくとも備えた積層薄膜の製造装置であって、上記基板ホルダを往復移動させるガイド機構と、上記基板ホルダを往復移動させる基板ホルダ駆動源と、上記基板ホルダの往復移動を検出するセンサと、上記センサの検出情報に基づいて、上記シャッタ駆動源および基板ホルダ駆動源の作動を制御する制御手段を少なくとも備えたことを特徴とする積層薄膜の製造装置。

IPC (5件)：

C23C 14/34 , G02B 1/11 , G02B 5/20 , H01L 21/203 , H01L 43/12

FI (7件)：

C23C 14/34 U , C23C 14/34 G , C23C 14/34 J , G02B 5/20 , H01L 21/203 S , H01L 43/12 , G02B 1/10 A

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