特許

J-GLOBAL ID：200903084375038786

浸漬塗布装置

発明者： 久保田 達也
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-329439
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131948
出願日： 2000年10月27日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】【課題】 塗工槽径、蒸気層高さ、及び円筒状基体の通過する塗工槽上蓋開口部の径を自在に調整でき、基体全表面に均一な膜厚の塗膜層を与える浸漬塗布装置を提供することを目的とする。【解決手段】 塗工槽受け穴2に、蒸気層高さ調整リング5と塗工槽6を、また塗工槽上蓋1に塗工槽上蓋開口径調整円盤4を装着する。また、塗工槽6の上端は、オ-バ-フロ-した塗工液がなだらかに流出し、液受けパン3に落下するように傘状になっている。

請求項（抜粋）：

円筒状基体を塗工槽に浸漬したのち、引き上げて塗膜を形成する浸漬塗工法の電子写真感光体の製造装置において、基体のサイズに適合した塗工槽径、蒸気層高さ、及び塗工槽上蓋開口径に調整できることを特徴とした浸漬塗布装置。

IPC (5件)：

G03G 5/05 102 ,  B05C 3/09 ,  B05D 1/18 ,  B05D 7/00 ,  G03G 21/00 350

FI (5件)：

G03G 5/05 102 ,  B05C 3/09 ,  B05D 1/18 ,  B05D 7/00 H ,  G03G 21/00 350

Fターム (28件)：

2H035CA07 ,  2H035CB01 ,  2H035CB03 ,  2H068AA21 ,  2H068AA26 ,  2H068AA54 ,  2H068EA16 ,  4D075AB02 ,  4D075AB04 ,  4D075AB12 ,  4D075AB33 ,  4D075AB36 ,  4D075AB38 ,  4D075AB41 ,  4D075CA47 ,  4D075DA15 ,  4D075DA20 ,  4D075DC18 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F040AA07 ,  4F040AB06 ,  4F040AC01 ,  4F040BA42 ,  4F040CC02 ,  4F040CC09 ,  4F040CC13