特許

J-GLOBAL ID：200903084381327315

表面を絶縁化したグラファイトシートとその製造方法

発明者： 大木 芳正 ,  土屋 宗次 ,  田尾本 昭
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050015
公開番号（公開出願番号）：特開2000-247740
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【課題】 熱伝導性、柔軟性を維持しながら表面からのグラファイト粉末の脱離を防止し、表面の電気的な絶縁性を持たせたグラファイトシートを提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、膜厚300μm以下のポリイミドフィルムを不活性ガス中で室温から昇温して1000°Cから1600°Cの温度範囲までで焼成する予備処理工程と、前記予備処理工程後室温から昇温して温度2500°C以上の温度までで焼成しグラファイトシートを得る本処理工程と、前記本処理工程で得られたグラファイトシートを圧延処理する圧延処理工程と、前記圧延処理工程後グラファイトシートの表面に絶縁材料層を設ける行程とを有するグラファイトシートの製造方法である。

請求項（抜粋）：

膜厚300μm以下のポリイミドフィルムを不活性ガス中で室温から昇温して1000°Cから1600°Cの温度範囲までで焼成する予備処理工程と、前記予備処理工程後室温から昇温して温度2500°C以上の温度までで焼成しグラファイトシートを得る本処理工程と、前記本処理工程で得られたグラファイトシートを圧延処理する圧延処理工程と、前記圧延処理工程後グラファイトシートの表面に絶縁材料層を設ける工程とによって表面に絶縁性の層が形成されたグラファイトシートの製造方法。

IPC (3件)：

C04B 35/52 ,  C01B 31/04 101 ,  H01L 23/373

FI (3件)：

C04B 35/54 E ,  C01B 31/04 101 Z ,  H01L 23/36 M

Fターム (12件)：

4G032AA13 ,  4G032BA04 ,  4G032GA11 ,  4G032GA19 ,  4G046EA03 ,  4G046EB01 ,  4G046EB06 ,  4G046EC03 ,  4G046EC05 ,  5F036AA01 ,  5F036BB21 ,  5F036BD11