特許
J-GLOBAL ID:200903084383975853

プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-263565
公開番号(公開出願番号):特開2001-084896
出願日: 1999年09月17日
公開日(公表日): 2001年03月30日
要約:
【要約】【課題】 製造工程が少なくかつ簡素で小型の製造設備を実現できる、プラズマディスプレイパネル製造方法を提供する。【解決手段】 透明電極18は、前面ガラス基板16上に透明電極用薄膜44を設け、レーザビーム64を薄膜上でX方向に連続的にかつY方向に所定の間隔をあけて照射することでレーザビーム64のライン状照射領域間に薄膜を残して形成する。透明電極基板46が備える位置決めマーク19の形成を、透明電極18の形成と同一装置、同一材料、及び同一工法により同一工程にて行う。利用するマスク66及び開口部72も、同一のものであってもよい。
請求項(抜粋):
前面基板と該前面基板との間に所定の間隔をあけて略平行に配置された背面基板とを有し、背面基板に対向する前面基板の背面上に、順次、第1の方向に平行に伸びる複数の透明電極と、各透明基板の背面上を透明電極と平行に伸びるバス電極と、これら透明電極とバス電極とを被覆する誘電体層と、誘電体層を被覆する保護膜とを設け、前面基板に対向する背面基板の前面上に、第1の方向に略直交する第2の方向に平行に伸びる複数のデータ電極と、隣接するデータ電極の間にデータ電極と平行に伸びる隔壁と、隣接する隔壁の間に設けられた蛍光体とを設けたプラズマディスプレイパネルにおいて、前面基板の背面上の所定領域に透明電極用薄膜を形成し、この透明電極用薄膜に、レーザ発振器から周期的に出射されるレーザビームを照射して透明電極を形成する工程に、(a)レーザビームに対して前面基板を移動させながら、透明電極用薄膜上において一つのレーザビームが照射される領域とこのレーザビームに続いて出射される次のレーザビームが照射される領域とが少なくとも一部で重なるようにレーザビームを出射して透明電極用薄膜部分を順次消失させ、これにより前面基板の露出する長溝を第1の方向に連続して形成する工程と、(b)工程(a)の終了後、形成された長溝から第2の方向に所定の距離だけ離れた場所にレーザビームの照射位置を移動する工程と、(c)工程(a)と(b)を繰り返し、透明電極用薄膜に複数の長溝を平行に形成し、これにより各隣接する長溝の間にそれぞれ透明電極を形成する工程とを含む、プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、さらに、前面基板の背面上の所定領域に位置決めマーク用薄膜を形成し、この位置決めマーク用薄膜にレーザ発振器から周期的に出射されるレーザビームを順次照射しつつ、照射されるレーザビームと前面基板とを相対移動させて、位置決めマークを形成する工程を、含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (2件):
H01J 9/02 ,  H01J 11/02
FI (2件):
H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B
Fターム (8件):
5C027AA01 ,  5C040FA01 ,  5C040FA04 ,  5C040GB03 ,  5C040GB14 ,  5C040GC19 ,  5C040JA11 ,  5C040MA26

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