インク受容層形成用塗布液およびインク受容層付記録用シート

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木俊一郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-363259
公開番号（公開出願番号）：特開2003-159865
出願日： 2001年11月28日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：

【要約】【課題】印刷に際して、滲みがなく、濃度が一様に、かつ鮮明に印刷することが可能であり、かつ耐水性、耐候性、退色性に優れ、しかも充分な強度を有する印刷物を得ることが可能なインク受容層付記録用シートを形成可能なインク受容層形成用塗布液およびインク受容層付記録用シートを提供する。【解決手段】(i)平均粒子径が2〜60nmの範囲にあるシリカ微粒子が分散してなるシリカゾルと、(ii)下記式(1)で表される有機基含有ケイ素化合物と、(iii)バインダーとが、水および/または有機溶媒からなる溶媒に分散されてなることを特徴とするインク受容層形成用塗布液。:RnSiX4-n (1)〔ただし、Rは互いに同一であっても異なっていてもよい炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、nは1〜3の整数〕前記(i)〜(iii)に加えて、さらに、(iv)酸性珪酸液を含んでいてもよい。

請求項（抜粋）：

(i)平均粒子径が2〜60nmの範囲にあるシリカ微粒子が分散してなるシリカゾルと(ii)下記式(1)で表される有機基含有ケイ素化合物と(iii)バインダーとが、水および/または有機溶媒からなる溶媒に分散されてなることを特徴とするインク受容層形成用塗布液。RnSiX4-n (1)〔ただし、Rは互いに同一であっても異なっていてもよい炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、nは1〜3の整数〕

IPC (6件)：

B41M 5/00 , B41J 2/01 , C09D129/04 , C09D139/06 , C09D183/02 , C09D183/04

FI (6件)：

B41M 5/00 B , C09D129/04 , C09D139/06 , C09D183/02 , C09D183/04 , B41J 3/04 101 Y

Fターム (31件)：

2C056EA13 , 2C056FC06 , 2H086BA01 , 2H086BA15 , 2H086BA33 , 2H086BA35 , 2H086BA41 , 2H086BA45 , 4J038CE021 , 4J038CK031 , 4J038DL022 , 4J038EA011 , 4J038EA012 , 4J038HA436 , 4J038HA446 , 4J038HA456 , 4J038JC31 , 4J038JC32 , 4J038JC33 , 4J038KA06 , 4J038KA08 , 4J038KA14 , 4J038KA18 , 4J038KA20 , 4J038MA07 , 4J038MA08 , 4J038MA10 , 4J038NA03 , 4J038NA04 , 4J038NA11 , 4J038PB11

引用特許：

審査官引用 (1件)

インクジェット記録用紙
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-344674 出願人：コニカ株式会社

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