特許

J-GLOBAL ID：200903084392050005

熱転写シート及び熱転写シートの作成方法並びに画像形成用マスク材の作成方法

発明者： 瀧本 正高 ,  間野 茂 ,  小川 隆宏 ,  川上 壮太
出願人/特許権者： コニカ株式会社
代理人 (1件)： 鶴若 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-104641
公開番号（公開出願番号）：特開平6-087271
出願日： 1991年04月10日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【目的】 熱転写層等への不純物の混入が制限された熱転写シート及び不純物の混入が制限された熱転写シートを用いることで、いわゆる黒ポチや白ヌケ等の画像欠陥を生じない画像形成用マスク材を作成する。【構成】 塗布液槽2に貯溜される熱転写層塗布液1をポンプ5により送液しながら、配管4途中に配設される100μmフィルタ6、70μmフィルタ7、40μmフィルタを通して順次ろ過し、このろ過済みの熱転写層塗布液1を支持体に塗布して熱転写シートを作成する。

請求項（抜粋）：

少なくとも光不透過性の熱転写層を有する熱転写シートにおいて、前記熱転写層に含まれる100μm以上の大きさを有する不溶解物、凝集物、ゴミ等の不純物の個数が前記熱転写シート1m2当り5個以下であることを特徴とする熱転写シート。