特許

J-GLOBAL ID：200903084393471756

投影露光方法およびこれに用いる投影露光装置

発明者： 塘 洋一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-298308
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153658
出願日： 1993年11月29日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：

【要約】【目的】 FLEX露光法におけるデフォーカス時の光強度プロファイルの劣化を防止する。【構成】 コヒーレンシ・ファクタσの小さい(高コヒーレンシ)条件による露光は、パターン中心における光強度が大きい一方でデフォーカス時の光強度低下が顕著となる傾向を示し、σの大きい(低コヒーレンシ)条件による露光はその反対の傾向を示す。そこで、同一露光地点の光軸上に沿って合焦点を含む3点以上の露光点を設定し、中央またはその近傍の露光点ではこれ以外の露光点におけるよりもσを低下させることで、双方の条件によるメリットを組み合わせる。σ値の低下は、実用的にはハエの目面に可変絞りを挿入したステッパを用い、この可変絞りの開口を狭くして照明光学系の開口数NA1 を減ずることにより行う。

請求項（抜粋）：

投影露光装置を用いて基板上にフォトマスクのパターンを投影する投影露光方法において、前記基板上の同一露光地点に対して前記投影露光装置の光軸に沿いかつ合焦点を含む所定範囲内に3点以上の結像点を設定し、合焦点および/またはその近傍点に存在する結像点ではそれ以外の結像点におけるよりもコヒーレンシ・ファクタσを低下させた条件で前記パターンを投影することを特徴とする投影露光方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03B 27/34 ,  G03B 27/72 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 526 A ,  H01L 21/30 514 A