特許
J-GLOBAL ID：200903084395849659
液晶注入システム、液晶注入方法および液晶装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-054611
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258296
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：
【要約】【課題】大型のチャンバを必要とすることなく枚葉処理が可能で、サイクルタイムが短く作業効率が良好な液晶注入システムおよび液晶注入方法の提供を目的としている。【解決手段】本発明の液晶注入システム1は、搬送系2と処理系4とを備え、搬送系2は、パネルPをカートリッジC内にセットするパネル装填ステーション6と、パネルPがセットされたカートリッジC内を真空引きする真空引きステーション7と、カートリッジC内にセットされたパネルPのセル内が所定の真空度に達するまでカートリッジCを待機させる待機ステーション8とを備え、処理系4は、所定の真空雰囲気下でカートリッジC内からパネルPが取り出されるとともに、パネルPのセル内に液晶を注入するために、大気圧もしくは所定の加圧雰囲気下に晒される、液晶槽26を備えたチャンバ22,24を備えている。
請求項（抜粋）：
2つの基板を貼り合わせることによって形成されるパネルのセル内に液晶を注入するための液晶注入システムにおいて、前記パネルが装填された真空カートリッジを搬送する搬送系と、この搬送系によって搬送される前記真空カートリッジ内の前記パネルに液晶を注入する注入処理を行なう処理系とを備え、前記搬送系は、前記パネルを1枚ずつ前記真空カートリッジ内にセットするパネル装填ステーションと、前記パネルがセットされた前記真空カートリッジ内を真空引きして所定の真空状態に設定する真空引きステーションと、前記真空カートリッジ内にセットされた前記パネルのセル内が前記所定の真空度に達するまで、真空引きされた前記真空カートリッジを待機させる待機ステーションとを備え、前記処理系は、前記所定の真空雰囲気下で前記真空カートリッジ内から前記パネルが取り出されるとともに、前記パネルのセル内に液晶を注入するために、大気圧もしくは所定の加圧雰囲気下に晒される、液晶槽を備えたチャンバを備えていることを特徴とする液晶注入システム。
Fターム (4件)：
2H089NA25
, 2H089NA56
, 2H089NA60
, 2H089QA12
