特許
J-GLOBAL ID：200903084399260200
フローセンサ
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
佐竹 良明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-091600
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264566
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：
【要約】【目的】 薄膜ヒータを基板側と熱的および電気的に分離すると共に、気体流に渦を生じさせないフローセンサを得る。【構成】 n形シリコン基板1の表面に高濃度ホウ素添加単結晶シリコン層2を形成する。この基板の両面にSiO2膜4、5を熱酸化の手法で形成し、裏面のSiO2膜5に窓をあける。こうして基板1を異方性エッチングすると、n形シリコン基板1に空洞15ができ、高濃度ホウ素添加単結晶シリコン層2は異方性エッチャントに侵されず、空洞15の上にダイヤフラム状に残る。これを薄膜ヒータ6として利用する。薄膜ヒータ6には気体の流れに沿って電流が流れるように、電極7,7は上流側と下流側に設ける。薄膜ヒータ6の上流側と下流側において、溝3の上のSiO2膜4にスリット8を形成し、薄膜ヒータ6と基板1を熱的および電気的に分離する。薄膜ヒータ上に気体の流れに沿って、上流側、中央部、下流側にそれぞれ温度センサ9a,b,cを設ける。
請求項（抜粋）：
気体の流れにさらされる薄膜ヒータの上流側と下流側の温度をそれぞれ温度センサで測定し、それらの温度差から気体の流速を検出するようにしたフローセンサにおいて、基板に設けられた空洞の上に該薄膜ヒータを形成し、該薄膜ヒータの上流側と下流側に、該薄膜ヒータを基板側と切り離すスリットを設け、該スリットは気体の流れが層流を保つ程度の細い幅を有していることを特徴とするフローセンサ。
IPC (2件)：
引用特許：
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