特許
J-GLOBAL ID:200903084410087760

画像形成装置において支持面へ塗布される液体の一部を再生するシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 中島 淳 ,  加藤 和詳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-157210
公開番号(公開出願番号):特開2006-341607
出願日: 2006年06月06日
公開日(公表日): 2006年12月21日
要約:
【課題】オフセット印刷画像形成システムにおいて、摩擦係数の低い、繊維のシェディング(脱落)が削減された、流体をろ過するためのフィルタを有する再生システムおよびプロセスを提供する。【解決手段】画像形成装置において支持面へ液体を塗布し、該液体の一部分を再生するシステムでは、支持面へ液体を塗布するローラ面と、ろ過裏面と低摩擦ライナー面が固着されたろ過表面とを有する液体透過フィルタと、を含み、ライナー面が、ローラ面と直接摩擦接触し、フィルタが、ろ過裏面の支持面から回収された液体を受取り、再生後の浄化された液体を、ライナー面から、ろ過表面を介して、ローラ面へ送る。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
画像形成装置において支持面へ液体を塗布し、該液体の一部分を再生するシステムであって、 前記支持面へ液体を塗布するローラ面と、 ろ過裏面と、低摩擦ライナー面が固着されたろ過表面と、を有する液体透過フィルタと、 を含み、 前記ライナー面が、前記ローラ面と直接摩擦接触し、前記フィルタが、前記ろ過裏面の前記支持面から回収された液体を受取り、浄化された液体を前記ろ過表面を介して前記ライナー面から前記ローラ面へ送る、 システム。
IPC (1件):
B41F 31/20
FI (1件):
B41F31/20
Fターム (7件):
2C250DB00 ,  2C250DB22 ,  2C250DB29 ,  2C250DC05 ,  2C250DC09 ,  2C250DC10 ,  2C250DC11
引用特許:
審査官引用 (1件)

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