特許
J-GLOBAL ID:200903084415770043
研磨装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
足立 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-101382
公開番号(公開出願番号):特開2000-288230
出願日: 1999年04月08日
公開日(公表日): 2000年10月17日
要約:
【要約】【課題】 研磨性能を低下させることなく容易に小型化を図ることのできる研磨装置を提供すること。【解決手段】 一次タンク11内のメダルが、ホッパー33に投入され、リフター15により揚送され、研磨ボックス17内を落下し、その落下中にメダルの表面が研磨される。研磨ボックス17の下端まで落下したメダルは、再び、ホッパー33に投入されて、リフター15により揚送されることになる。つまり、リフター15による揚送と研磨ボックス17内の落下の繰り返しにより、メダルは環状搬送経路内を循環することになる。この時、メダルは何度も研磨ボックス17内を落下するので、そのたびにメダルが磨かれることになる。シャッター装置19が作動すると、リフター15により研磨ボックス17へと搬送されているメダルが二次タンク21へ回収される。
請求項(抜粋):
遊技球やメダル等の研磨対象物を環状搬送経路内で循環させる循環搬送手段と、前記環状搬送経路内を循環する前記研磨対象物に接触して該研磨対象物を研磨する研磨手段と、前記環状搬送経路の上流側から搬送されてくる前記研磨対象物を、前記環状搬送経路の下流側へと案内する第1の状態、または前記環状搬送経路から分岐する分岐経路へと案内する第2の状態に切り替え可能な搬送先切替手段とを備えたことを特徴とする研磨装置。
Fターム (1件):
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
遊技島
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-216512
出願人:株式会社三共
-
特開昭51-103396
-
メダル等の研磨方法及び研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-210906
出願人:株式会社メイセイ
前のページに戻る