特許

J-GLOBAL ID：200903084426798810

ウエハ用カセット

発明者： 野間 明久
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-151748
公開番号（公開出願番号）：特開平10-340945
出願日： 1997年06月10日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】 ウォータマークの生成を抑制しかつ表面に付着する汚染物質の量を低減して、製造される半導体装置の特性信頼度や製造歩留りに対するウエハ用カセットの影響を少なくする。【解決手段】 ウエハ用カセット1は、間隔をあけて配置された一対の支持体21、22と、一対の支持体21、22の上部側に、これら一対の支持体21、22間に架け渡されるとともに間隔をあけて互いに略平行に配置された一対の棒状の上保持体31、32と、一対の支持体21、22の下部側に、これら一対の支持体間21、22に架け渡された一対の棒状の下保持体41、42とを備え、一対の上保持体31、32の相対向する側と下保持体41、42の上側とにはそれぞれ、ウエハの周縁部を保持する多数の溝6が上保持体31、32、下保持体41、42の長さ方向に並列形成されている構成になっている。

請求項（抜粋）：

間隔をあけて配置された一対の支持体と、前記一対の支持体の上部側に、これら一対の支持体間に架け渡されるとともに間隔をあけて互いに略平行に配置された一対の棒状の上保持体と、前記一対の支持体の下部側に、これら一対の支持体間に架け渡された少なくとも1つの棒状の下保持体とを備え、前記一対の上保持体の相対向する側と前記下保持体の上側とにはそれぞれ、ウエハの周縁部を保持する多数の溝が上保持体、下保持体の長さ方向に並列形成されていることを特徴とするウエハ用カセット。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B65D 85/86 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/304 341 C ,  B65D 85/38 R