特許

J-GLOBAL ID：200903084426979068

洗浄方法および洗浄装置

発明者： 渡部 弘也 ,  高村 章三 ,  原田 康之
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック ,  株式会社プレテック
代理人 (1件)： 野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-021203
公開番号（公開出願番号）：特開平9-206713
出願日： 1996年02月07日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】【課題】 液晶基板の洗浄工程において、ブラシを用いると基板を傷つけるおそれがある。また低周波の超音波振動を付与した純水を用いた洗浄では、大きなパーティクルを除去できるが、小さなパーティクルや有機物さらに金属を除去することは困難である。【解決手段】 液晶基板などの被洗浄物に対し、低周波の超音波を印加した純水を付与しさらに高周波を付与するオゾン水により洗浄を行う。低周波の超音波を付与した純水ではキャビテーション効果により比較的大きなパーティクルを除去できる。さらに純水にオゾン水を混合しさらに高周波の超音波振動を印加した純水で洗浄すると、高周波振動の加速度で微細なパーティクルを除去でき、またオゾン水の酸化力により有機物や金属の汚染物を有効に除去できる。

請求項（抜粋）：

100kHz以下の低周波振動を印加した純水を与えて被洗浄物を洗浄する工程と、1MHz以上の高周波振動を印加した純水を与えて被洗浄物を洗浄する工程の双方を備えたことを特徴とする洗浄方法。