特許
J-GLOBAL ID:200903084432260369
現像装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小森 久夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-177487
公開番号(公開出願番号):特開2002-365912
出願日: 2001年06月12日
公開日(公表日): 2002年12月20日
要約:
【要約】【課題】現像剤の搬送時における搬送手段の絶縁層の表面電位の変動を抑制し、搬送手段の表面における現像剤の固着を防止して常に安定して現像位置に現像剤を搬送することができ、現像工程時の像担持体と搬送手段との間の現像電位の変動を抑制して常に安定した現像状態を実現する。【解決手段】搬送部材1における絶縁層1b,1cの表面に、体積抵抗率が1010Ω・cm〜1017Ω・cmの保護層1dを、絶縁層1b,1cとの層厚の和が進行波発生電極2の間隔よりも小さくなるように積層して設けた。進行波発生電極2で発生した進行波電界が搬送部材1の表面に確実に露出するとともに、搬送部材1の表面電位が現像剤Tとの接触によっても変動することがなく、搬送部材1の表面において現像剤Tを確実に搬送することができる。
請求項(抜粋):
搬送手段に形成された進行波電界によって現像剤を現像位置に搬送して像担持体表面の静電潜像を顕像化する現像装置において、搬送手段を基材の表面に進行波発生電極の周面を被覆する絶縁層、及び、現像剤との接触面を保護する保護層をこの順に積層して構成するとともに、保護層の体積抵抗率を絶縁層の体積抵抗率よりも低くしたことを特徴とする現像装置。
IPC (2件):
G03G 15/08 507
, G03G 15/08 501
FI (2件):
G03G 15/08 501 F
, G03G 15/08 507 E
Fターム (6件):
2H077AC13
, 2H077AD07
, 2H077AD35
, 2H077FA12
, 2H077FA25
, 2H077FA29
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