特許

J-GLOBAL ID：200903084435765720

ドライエッチング方法及び装置

発明者： 山口 直志 ,  関口 大好 ,  木村 悌一
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-152056
公開番号（公開出願番号）：特開2002-353193
出願日： 2001年05月22日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
要約：

【要約】【課題】 ドライエッチング装置において、プラズマ発生時に、プラズマが不安定になることから、基板に対してエッチングに不安定な期間が生じ、安定なエッチングに支障をきたしていた。【解決手段】 反応室1にエッチングに寄与しないガスを供給し、プラズマを発生させ、プラズマ安定後、ガス置換によりエッチングを行うガスに置換し、エッチングが不安定な期間を回避する。

請求項（抜粋）：

反応室内に、エッチングに寄与しないガスを供給する工程と、このエッチングに寄与しないガスにてプラズマを発生させる工程と、このプラズマが安定した後、前記エッチングに寄与しないガスをエッチングを行うガスに置換する工程とを有したことを特徴とするドライエッチング方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

B01J 19/08 H ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 A

Fターム (24件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC06 ,  4G075DA02 ,  4G075DA11 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4K057DA16 ,  4K057DD01 ,  4K057DE14 ,  4K057DE20 ,  4K057DG06 ,  4K057DM28 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB28 ,  5F004BC03 ,  5F004CA01 ,  5F004CA02 ,  5F004DA00 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26