特許

J-GLOBAL ID：200903084445965051

色変換フィルタ基板、該色変換フィルタ基板を具備する色変換カラーディスプレイ、およびそれらの製造方法

発明者： 内海 誠 ,  川口 剛司
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-374994
公開番号（公開出願番号）：特開2002-175880
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】 有機EL発光素子の光を効率よく透過する無機膜層の設計指針、長期にわたって安定した発光特性を維持する色変換フィルタ基板およびカラー有機ELディスプレイの提供。【解決手段】 透明な支持基板と、蛍光色素を含有する樹脂膜を所望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィルタ層と、透明かつ平坦である高分子膜層と、透明な無機膜層と、1または複数の電気的に独立した領域に形成される透明電極層とを少なくとも備えた色変換フィルタ基板であって、該無機膜層は単一の層であり、および450〜500nmの範囲内にある波長λに関して、該無機膜層の屈折率は該透明電極層の屈折率よりも小さく、かつ該無機膜層の膜厚dが、式nd=sλ/2(式中、n:無機膜層の屈折率、s:自然数である)の関係を満たすことを特徴とする色変換フィルタ基板。

請求項（抜粋）：

透明な支持基板と、該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィルタ層と、該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に形成される高分子膜層と、該高分子膜層上に形成される透明な無機膜層と、該無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に形成される透明電極層とを少なくとも備える色変換フィルタ基板であって、該無機膜層は単一の層であり、および450nm以上500nm以下の範囲内にある波長λに関して、該無機膜層の屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、かつ該無機膜層の膜厚dが、以下の式:nd=sλ/2(式中、nは波長λの光に対する該無機膜層の屈折率であり、およびsは自然数である)の関係を満たすことを特徴とする色変換フィルタ基板。

IPC (4件)：

H05B 33/12 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/22 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

H05B 33/12 E ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/22 ,  H05B 33/14 A

Fターム (24件)：

2H048BA02 ,  2H048BA45 ,  2H048BB02 ,  2H048BB10 ,  2H048BB14 ,  2H048BB41 ,  2H048CA04 ,  2H048CA14 ,  2H048CA19 ,  2H048CA23 ,  2H048CA24 ,  3K007AB02 ,  3K007AB04 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EA04 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01