特許
J-GLOBAL ID：200903084459888424
安定な低酸素不活性ガス雰囲気を有するリフロー炉
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-200309
公開番号（公開出願番号）：特開平6-021645
出願日： 1992年07月02日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 不活性ガスの雰囲気中で半田付けを行うリフロー炉に特定の設備を付設することによって、安定な低酸素濃度の不活性ガス雰囲気が得られ、半田付け不良の発生が防止できる。【構成】 リフロー炉の底部に逆四角台形もしくはすり鉢状の不活性ガスだまりを付設することによって、外部空気のリフロー炉内への流入を抑制するとともに、空気のリフロー炉内上部への拡散を抑えるので、安定な低酸素濃度の不活性ガス雰囲気が得られる。
請求項（抜粋）：
炉の上部(天井)に不活性ガスの供給口を有するとともに、炉内上部に不活性ガス雰囲気を均一化するためのプロペラを備え、かつその両側に不活性ガス雰囲気を加熱するためのヒーターを配設し、さらにその下部に少なくともワ-ク(これは電子部品を仮どめしたプリント基板をいう)とその搬送設備が通る大きさの開口部を備えたリフロー炉において、その底部に不活性ガスを貯留しうる不活性ガスだまりを付設することを特徴とする安定な低酸素不活性ガス雰囲気を有するリフロー炉。
引用特許：
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