特許

J-GLOBAL ID：200903084468287832

放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法

発明者： 川崎 真一 ,  屋良 卓也
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-214079
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031398
出願日： 2001年07月13日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】 放電プラズマ処理装置で用いる電極を、剛性を維持し、かつ放電特性を維持して軽量化した構造を有する放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 一対の対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該電極間に電界を印加することにより、放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理装置であって、電極が薄板と内部補強体との組み合わせにより軽量化した構造を用いることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

一対の対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該電極間に電界を印加することにより、放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理装置であって、電極が薄板と内部補強体との組み合わせにより軽量化した構造を用いることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H05H 1/46 ,  B01J 19/08

FI (2件)：

H05H 1/46 M ,  B01J 19/08 E

Fターム (11件)：

4G075AA30 ,  4G075BC06 ,  4G075CA15 ,  4G075DA02 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EE01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB12 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15