特許

J-GLOBAL ID：200903084469079133

レジストパターンの寸法測定方法

発明者： 上谷 保則 ,  野上 長俊 ,  本多 祥晃
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-125509
公開番号（公開出願番号）：特開2001-304841
出願日： 2000年04月26日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：

【要約】【課題】 走査型電子顕微鏡の電子線照射によるレジストパータンの体積収縮を抑制して、測定精度を向上し得る方法を提供する【解決手段】 レジストパターンの寸法を走査型電子顕微鏡で測定するにあたり、試料を冷却して測定することを特徴とするレジストパターンの寸法測定方法。

請求項（抜粋）：

レジストパターンの寸法を走査型電子顕微鏡で測定するにあたり、試料を冷却して測定することを特徴とするレジストパターンの寸法測定方法。

IPC (5件)：

G01B 15/00 ,  G01B 15/04 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G01B 15/00 B ,  G01B 15/04 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 501 ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (22件)：

2F067AA21 ,  2F067AA54 ,  2F067BB04 ,  2F067CC16 ,  2F067CC17 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK08 ,  2F067LL00 ,  2F067TT03 ,  2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA20 ,  2H096GA08 ,  2H096LA17