特許
J-GLOBAL ID：200903084470745686
ベンゾ-1,4-ジシラシクロヘキセン誘導体及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-066627
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258271
出願日： 1990年03月08日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】【目的】 新規な5,6-ベンゾ-1,4-ジシラシクロヘキセン誘導体を提供する。【構成】 一般式(I)【化1】(但し式中のR1,R2,R3及びR4はそれぞれ同一又は異なった低級アルキル基もしくは水素原子、R5,R6 及びR7は水素原子又は低級アルキル基である。)で表わされる5,6-ベンゾ-1,4-ジシラシクロヘキセン誘導体。
請求項（抜粋）：
一般式(I)【化1】(但し式中のR1,R2,R3及びR4はそれぞれ同一又は異なった低級アルキル基もしくは水素原子、R5,R6 及びR7は水素原子又は低級アルキル基である。)で表わされる5,6-ベンゾ-1,4-ジシラシクロヘキセン誘導体。
IPC (3件)：
C07F 7/08
, B01J 31/24
, C07B 61/00 300
