特許
J-GLOBAL ID：200903084474344597
薄膜の光学的特性測定方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-214612
公開番号（公開出願番号）：特開平7-063671
出願日： 1993年08月30日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 不均質膜や多層膜の光学的特性を簡単に測定することができる薄膜光学的特性測定方法及びその方法に用いられる装置を提供する。【構成】 真空槽3内に配置した回転板4に薄膜を成膜すべき基板8とモニター板9とを取り付け、モニター板9に対する成膜を阻止する遮蔽板31を設け、この遮蔽板31を回転板4に対し同期回転させると共に、遮蔽板31の回転板4に対する位相を調整してモニター板9の遮蔽部分を順次露出させ、この新たに露出された露出部に成膜された単層膜の光学的特性を測定して基板8に成膜された多層膜の光学的特性を算出する。
請求項（抜粋）：
真空槽内に配置した回転板に、薄膜を成膜すべき基板とモニター板とを取り付け、モニター板に成膜された薄膜の光学的特性を測定する方法において、モニター板表面の成膜を阻止する遮蔽板を設け、該遮蔽板を回転板に対し同期回転させて成膜を行い、遮蔽板の回転板に対する位相を調整して相対移動させてモニター板の遮蔽部分を順次露出させ、新たに露出されたモニター板の露出部に成膜された薄膜の光学的特性を測定することを特徴とする薄膜の光学的特性測定方法。
IPC (4件)：
G01N 21/21
, G01B 11/06
, G01N 21/27
, G01N 21/41
