特許
J-GLOBAL ID：200903084481363327
オフセット印刷方法、装置及びそれにより製造する高精細パターン基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-028801
公開番号（公開出願番号）：特開2000-225679
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】 ブランケットに悪影響を与えるごみや埃を極力排除し、 高精細なオフセット印刷を可能にする。 また、その結果、 ブランケットの寿命を伸ばし、 ローコストな高精細オフセット印刷を可能にする。【解決手段】 ブランケット113がごみや埃により汚染されない様、防塵機構、具体的には除電機構121、カバー120又はイオナイザー等を設ける。
請求項（抜粋）：
凹版にインキを供給するディスペンサ装置、該凹版上の余分なインキをかきとるドクターブレードおよび該凹版上のインキパターンを受理して、それを被印刷物に転移するブランケットとを具備するオフセット印刷装置であって、該ブランケットがゴミや埃により汚染されるのを防ぐ防塵機構をさらに有することを特徴とするオフセット印刷装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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