特許

J-GLOBAL ID：200903084493255848

化粧料

発明者： 西坂 崇宏 ,  中谷 有沙 ,  山▲崎▼ 誠司
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-192936
公開番号（公開出願番号）：特開2001-019629
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【解決手段】 (A)式(1)【化1】(lは0〜2、mは5〜11の数)で表わされるヒドロキシカルボン酸亜鉛、及び(B)抗炎症作用を有する植物抽出物又はイオウを含有する化粧料。【効果】 ニキビの予防・改善効果に優れる。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)及び(B):(A)一般式(1)【化1】(式中、lは0〜2、mは5〜11の数を示す)で表わされるヒドロキシカルボン酸亜鉛、(B)抗炎症作用を有する植物抽出物又はイオウを含有する化粧料。

IPC (3件)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  A61K 31/00 617

FI (6件)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 B ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 Y ,  A61K 31/00 617

Fターム (31件)：

4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AB032 ,  4C083AB052 ,  4C083AB111 ,  4C083AB112 ,  4C083AB172 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC092 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AC301 ,  4C083AC392 ,  4C083AC432 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD352 ,  4C083BB51 ,  4C083CC01 ,  4C083CC05 ,  4C083CC12 ,  4C083DD11 ,  4C083DD27 ,  4C083EE14

引用特許：

審査官引用 (7件)

• ニキビ用皮膚外用剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-085886   出願人：株式会社資生堂
• リパーゼ阻害剤およびニキビ用皮膚外用剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-085885   出願人：株式会社資生堂
• 特開昭54-145226
  
• 特開昭63-150208
  
• 特開平3-093710
  
• 特開平3-157311
  
• 皮脂分泌抑制剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-265252   出願人：花王株式会社