特許
J-GLOBAL ID：200903084499813192
厚膜無機酸化物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小松 秀岳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-124432
公開番号（公開出願番号）：特開平5-078103
出願日： 1991年04月30日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：
【要約】【目的】 基板上に膜厚1μm以上の結晶化あるいは配向した無機酸化物が形成されている厚膜無機酸化物及びその作成方法を提供すること。【構成】 素子を形成する基板上に無機酸化物の結晶化、及び配向化を促進する中間層を少なくとも1層以上設け、その上層に膜厚1μm以上の無機酸化物が形成されていることを特徴とする厚膜無機酸化物。
請求項（抜粋）：
素子を形成する基板上に無機酸化物の結晶化、及び配向化を促進する中間層を少なくとも1層以上設け、その上層に膜厚1μm以上の無機酸化物が形成されていることを特徴とする厚膜無機酸化物。
IPC (3件)：
C01B 13/32
, H01B 3/00
, H01L 21/316
