特許

J-GLOBAL ID：200903084514427970

パターン形成方法,マスク、及び投影露光装置

発明者： 福田 宏 ,  田中 稔彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-006188
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211617
出願日： 1994年01月25日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：

【要約】【構成】マスクパターンを投影レンズを介して基板上へ投影露光する際、露光光学系の光路中に透過率が光の入射角に依存する様な多重干渉膜13を設ける。【効果】位相シフトマスク,瞳フィルタ,変形照明等の複雑な方法を用いることなく、光学系の結像特性を改善し、解像度と焦点深度を向上することができる。

請求項（抜粋）：

光源を発した光を照明光学系を介してマスクに照射し、上記マスク上のパターンを投影レンズを介して基板上へ投影露光することによりパターンを形成する方法であって、上記光の光路の途中に、光透過率が光の入射角度に依存する特性を有する薄膜を設けたことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 528