アリルシラン含有組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：小林浩 , 片山英二 , 小林純子 , 古橋伸茂 , 大森規雄 , 鈴木康仁
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-525108
公開番号（公開出願番号）：特表2007-504312
出願日： 2004年09月03日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：

本発明は、特に石膏模型を注入する際、付加硬化したシリコーンからの水素ガスの発生を低減する方法を提供する。この点に関して、本発明は、付加硬化可能なシロキサン化合物、シロキサン架橋剤、触媒、および、前記組成物の反応において発生する水素ガスの量を低減するのに有効な量の、不飽和基に直接結合した少なくとも1個のメチレン基を有する不飽和シラン化合物を含んでなる付加硬化可能なシリコーン組成物に関する。

請求項（抜粋）：

a)付加硬化可能なシロキサン化合物(A)、 b)シロキサン架橋剤(B)、 c)触媒(C)、 d)組成物の反応において発生する水素ガスの量を低減するのに有効な量の、不飽和基に直接結合した少なくとも1個のメチレン基を有する不飽和シラン化合物(D)、 e)任意選択のインヒビター(E)、 f)任意選択の充填材(F)、 g)改質剤、染料、顔料、チキソトロープ剤、流動性向上剤、高分子増粘剤、界面活性剤、におい物質、希釈剤、および/または香味料から選択される任意選択の添加剤(G)、を含んでなり、前記組成物が、少なくとも6個の炭素原子を含むアセチレンアルコールを含まない付加硬化可能なシリコーン組成物。

IPC (2件)：

C08L 83/04 , C08K 5/542

FI (2件)：

C08L83/04 , C08K5/5425

Fターム (16件)：

4J002CP042 , 4J002CP141 , 4J002DE197 , 4J002EX018 , 4J002EX036 , 4J002FD010 , 4J002FD090 , 4J002FD146 , 4J002FD147 , 4J002FD200 , 4J002FD208 , 4J002FD310 , 4J002FD330 , 4J002GB00 , 4J002GH02 , 4J002GJ00

引用特許：

出願人引用 (13件)

米国特許第4,273,902号明細書
米国特許第3,775,352号明細書
米国特許第3,814,730号明細書

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