特許

J-GLOBAL ID：200903084515682605

マイクロ波および紫外線を併用した半導体光触媒による水処理装置

発明者： 堀越 智 ,  日高 久夫
出願人/特許権者： 堀越 智
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-117155
公開番号（公開出願番号）：特開2001-259620
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
要約：

【要約】【課題】 半導体光触媒を用いた水質汚染物質の浄化では処理時間等の問題点があるが、一般的な紫外線を照射した半導体光触媒による水質浄化法に比べ大幅に分解速度を向上させた。【解決手段】 半導体光触媒を用いた水質浄化法にマイクロ波等の電磁波を照射して、短時間で水質汚染有機物を除去する方法を考案した。電磁波および紫外線を同時に照射することにより、半導体光触媒を活性し水質浄化速度を向上させる。

請求項（抜粋）：

半導体光触媒が分散或いは懸濁した有機物含有水に波長150〜400nmの全部の領域或いは一部の領域の波長を含む輻射光と、波長1〜1000mmの全部の領域或いは一部の領域の波長を含む輻射光を同時に照射することを特徴とする、水中有機物の分解方法

IPC (2件)：

C02F 1/30 ,  B01J 35/02

FI (2件)：

C02F 1/30 ,  B01J 35/02 J

Fターム (17件)：

4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4G069AA15 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04B ,  4G069BB09B ,  4G069BC35B ,  4G069BC36B ,  4G069BC66B ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CC33 ,  4G069FB58

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 廃水処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-086301   出願人：工業技術院長