特許

J-GLOBAL ID：200903084529521647

水素ガス分離フィルタおよびその製造方法

発明者： 大嶋 仁英 ,  積 洋二
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-366968
公開番号（公開出願番号）：特開2000-189772
出願日： 1998年12月24日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】水素ガスを含有する混合ガスから該水素ガスを選択的かつ効率的に分離するのに好適な水素ガス分離フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】多孔質支持体の少なくとも一方の表面に通気性を有するSiとZrとを含有する非晶質の酸化物からなる分離膜を被着形成した水素ガス分離フィルタを用いて、水素ガスを含む混合ガスから該水素ガスを選択的かつ効率的に透過、分離する。

請求項（抜粋）：

多孔質支持体の少なくとも一方の表面に、通気性を有するSiとZrとを含有する非晶質の酸化物からなる分離膜を被着形成した水素ガス分離フィルタ。

IPC (2件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22

FI (2件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22

Fターム (39件)：

4D006GA41 ,  4D006HA27 ,  4D006HA28 ,  4D006JA25C ,  4D006KE02P ,  4D006KE07P ,  4D006KE08P ,  4D006KE12P ,  4D006KE13P ,  4D006KE16Q ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA08 ,  4D006MA22 ,  4D006MA24 ,  4D006MA31 ,  4D006MA33 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB12 ,  4D006MB15 ,  4D006MB19 ,  4D006MB20 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65X ,  4D006NA39 ,  4D006NA41 ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA51 ,  4D006NA62 ,  4D006NA63 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB19 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80