特許

J-GLOBAL ID：200903084540510649

液晶用絶縁膜の製造方法

発明者： 大石 知司 ,  前川 幸子 ,  加藤 明
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-235931
公開番号（公開出願番号）：特開平5-070960
出願日： 1991年09月17日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：

【要約】【目的】高性能,高画質な液晶パネルの開発を目的として、透明電極上に形成する良質な絶縁膜を提供する。【構成】絶縁膜を形成するための原料物質として、アルコキシド配位子を含む金属クラスタ化合物を使用する。この物質を適当な溶媒に溶かし、透明電極を形成した液晶用基板上に成膜する。これを熱処理あるいは光照射により分解して酸化物の膜を得る。この物質を用いると従来よりも低い温度で溶晶用絶縁膜を作製する。【効果】本手法を用いると従来よりも低い温度で液晶用絶縁膜を作製できる。また、二成分系絶縁膜では、両者が均一に分散した膜が得られる。このため画素むらもなく良好な画質の液晶パネルが得られる。

請求項（抜粋）：

液晶用絶縁膜の製造方法として、原料物質としてアルコキシド配位子を含む金属クラスタ化合物を使用することを特徴とする液晶用絶縁膜の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 18/12 ,  C23C 18/14 ,  C23C 30/00 ,  G02F 1/1333 505