特許

J-GLOBAL ID：200903084543487052

高屈折率偏光レンズの製造方法

発明者： 相磯 良充 ,  鳥井 敏英
出願人/特許権者： 株式会社ホプニック研究所
代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004006376
公開番号（公開出願番号）：WO2004-099859
出願日： 2004年05月12日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

気泡の発生といった不具合が無く密着性に優れたポリイソシアネートとポリチオールからなるポリウレタン系高屈折率偏光レンズの製造方法を提供する。偏光膜の両面にポリイソシアネートとポリチオールから形成されたポリウレタン系ポリマーからなるレンズ層を形成する工程を含む高屈折率偏光レンズの製造方法において、前記偏光膜として水分含有量が4.5重量%以下である偏光膜を用いることを特徴とする高屈折率偏光レンズの製造方法。

請求項（抜粋）：

偏光膜の両面にポリイソシアネートとポリチオールから形成されたポリウレタン系ポリマーからなるレンズ層を形成する工程を含む高屈折率偏光レンズの製造方法において、 前記偏光膜として水分含有量が4.5重量%以下である偏光膜を用いることを特徴とする高屈折率偏光レンズの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 3/00 ,  B29D 11/00

FI (2件)：

G02B3/00 ,  B29D11/00

Fターム (12件)：

4F213AA42 ,  4F213AG03 ,  4F213AH73 ,  4F213AR20 ,  4F213WA02 ,  4F213WA03 ,  4F213WA41 ,  4F213WA52 ,  4F213WA87 ,  4F213WB01 ,  4F213WE03 ,  4F213WE11

引用特許：

出願人引用 (2件)

• :特開昭61-235113号公報
  
• 偏光膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-401779   出願人：タレックス光学工業株式会社