特許
J-GLOBAL ID：200903084545222668
マルチビームを用いた光記録装置
出願人/特許権者：
日立工機株式会社
日立工機株式会社 について
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-070603
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271652
出願日： 1998年03月19日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 マルチビームのビーム径に対するビーム間隔の比を小さく、即ち高密度に配列したマルチビームを発生させることで、走査線間隔を高精度に設定可能となり高品質な印刷を実現する。【解決手段】 光記録装置において、マルチビーム発生部は、複数の半導体レーザと、光ファイバと、単一基板上にビームを伝播する光導波路を複数個設けた光導波素子からなり、半導体レーザからのレーザ光は光ファイバに導かれ、光ファイバから出射したレーザ光は光導波路に入力し、光導波素子の出射部のビーム間隔は、光ファイバと光導波素子の結号部のそれぞれの間隔より狭く設けてある。
請求項（抜粋）：
マルチビーム発生部からビームを出射して光記録材料上に一括走査させる光記録装置において、該マルチビーム発生部は、複数の半導体レーザと、単一モードビームを伝播する複数の光ファイバと、単一基板上に単一モードビームを伝播させる光導波路を複数個設けた光導波素子からなり、該複数の半導体レーザから出射するレーザ光は、それぞれ対応する光ファイバに導き、該光ファイバから出射したレーザ光はそれぞれ対応する光導波素子上の光導波路に入力するように結合されており、該光導波素子から出射するマルチビームのビーム間隔は、複数の光ファイバと光導波素子の入力結号部のビーム間隔より狭く設けてあることを特徴とするマルチビームを用いた光記録装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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