特許

J-GLOBAL ID：200903084552148350

ポジ型感放射線性組成物

発明者： 田村 一貴
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-275130
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084437
出願日： 2001年09月11日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】半導体回路、リソグラフィー用マスクの製造などに用いられる非常に高感度で高解像度な感放射線性組成物を得る。【解決手段】フェノール性水酸基を2個以上、7個以下有する多価フェノール化合物と2個のビニロキシアルキル基を有する化合物を重付加して得られる重合体を含有するポジ型感放射線性組成物。

請求項（抜粋）：

フェノール性水酸基を2個以上、7個以下有する多価フェノール化合物と2個のビニロキシアルキル基を有する化合物を重付加して得られる重合体を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 65/40 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 65/40 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB21 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J005AA24 ,  4J005BA00