特許

J-GLOBAL ID：200903084556789643

投影露光装置及びデバイスの製造方法

発明者： 吽野 靖行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-090302
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008178
出願日： 1995年03月23日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】 ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【構成】 第1物体のパターンを第2物体上に投影露光する投影光学系と、露光により前記投影光学系に生じる、前記投影光学系の光学特性の非回転対称性を、実質的に補正する補正手段とを有していること。

請求項（抜粋）：

第1物体のパターンを第2物体上に投影露光する投影光学系と、露光により前記投影光学系に生じる、前記投影光学系の光学特性の非回転対称性を、実質的に補正する補正手段とを有していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 E

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 投影露光方法および投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-326507   出願人：株式会社日立製作所