特許
J-GLOBAL ID：200903084569533540
磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-048963
公開番号（公開出願番号）：特開平5-250662
出願日： 1992年03月06日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】【目的】 磁気ディスク等の磁気記録媒体と磁気ヘッド間の摺動、接触、衝撃等による磁性薄膜の損傷を防止し、耐久性、信頼性を高める。【構成】 磁性薄膜を備えた非磁性基体上に設ける保護膜を、膜厚が3〜10nmのアモルファス性カ-ボン極薄膜を2層以上積層し、総膜厚30nm以下として形成する。また、アモルファス性カ-ボン極薄膜を炭素、水素を主成分とする反応性気体のプラズマ法等の気相反応法により形成し、膜形成後に空気中または酸素雰囲気中に置いてその界面に酸素と水素を含ませる。
請求項（抜粋）：
非磁性基体の磁性薄膜上に保護膜を積層した磁気記録媒体において、上記保護膜を、炭素、水素を主成分とする膜厚3〜10nmのアモルファス性カ-ボン極薄膜を2層以上積層して総膜厚を30nm以下のものとしたことを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (2件)：
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