特許
J-GLOBAL ID：200903084572475586
エネルギービーム径測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-225835
公開番号（公開出願番号）：特開平6-075053
出願日： 1992年08月25日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 特殊な分析器等を必要とせずにかつ正確にエネルギービーム径を測定することを目的とする。【構成】 エネルギービームを薄膜表面に照射して複数のラインパターンを形成することにより、各エネルギビームの面ドーズ量分布の重ね合わせとして得られる総面ドーズ量分布の極大値と極小値が線ドーズ量またはライン間隔の変化に対応して測定される場合とされない場合に変化する。この変化の境界が、ビーム形状を考慮した理論計算から得られるビーム径とビーム間隔の比の関数で表されることを用いてビーム径を算出する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成した薄膜表面に被ビーム径測定用のエネルギービームを一定のライン間隔(D)を設定した複数のラインからなるパターン毎に線ドーズ量を変化させて照射することにより、設定したしきい値より小さい面ドーズ量の極大値と前記しきい値より大きい面ドーズ量の極小値を持つパターンを形成する工程と、前記極大値に応じた線ドーズ量と前記極小値に応じた線ドーズ量の比(R)を求める工程と、前記R、及びDを以下の式に代入してビーム径(δ)を算出する工程とを具備することを特徴とするエネルギービーム径測定方法。記δ=D・f(A(R))但し、関数fは、単一エネルギービームの分布の重ね合わせとして計算より得られる面ドーズ量の極大値と極小値の比と、ビーム径の関係を表す関数であり、Aは定数である。
IPC (2件)：
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