特許

J-GLOBAL ID：200903084580387262

パターン露光装置

発明者： 小南 信也 ,  重田 淳二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175059
公開番号（公開出願番号）：特開2001-006998
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】ウェハのオリフラあるいはウェハ表面のオリフラ近傍で反射される検出光の形状または強度をもとにしてオリフラの角度を検出する方法を採ると、オリフラのへき開面の一部に傷があった場合に、正確なオリフラ角度の検出ができなかった。【解決手段】ウェハのオリフラの下方に検出光反射ミラーを設け、検出光が上記反射ミラーに反射した後の反射光を、ウェハのオリフラあるいはウェハ表面のオリフラ近傍に反射した後の反射光と区別して検出することによって、ウェハのオリフラの回転角を検出する。

請求項（抜粋）：

半導体等のウェハ上に塗布したホトレジストにホトマスクを通して、光や電子線を照射することによって所望のホトレジストパターンを形成するパターン露光装置において、ウェハのオリフラ面を検出するための検出光源および光検出器を有し、かつウェハのオリフラ面の下となる部分およびその近傍を含む位置に、上記検出光源から発生した検出光を上記光検出器の方向へ反射する検出光反射ミラーを有し、かつ上記検出光源から発生した光はウェハ表面のオリフラ近傍および上記検出光反射ミラーの両方に照射され、かつ検出光反射ミラーのうちウェハのオリフラによって入射する検出光から隠されている部分の形状に基いて、オリフラ面の向いている方向を検知することを特徴とするパターン露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 520 A ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 K

Fターム (33件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031HA13 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031JA01 ,  5F031JA06 ,  5F031JA07 ,  5F031JA14 ,  5F031JA15 ,  5F031JA17 ,  5F031JA28 ,  5F031JA30 ,  5F031JA32 ,  5F031JA34 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031KA13 ,  5F031MA27 ,  5F046BA04 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046CC06 ,  5F046CC16 ,  5F046EA20 ,  5F046EB01 ,  5F046FA05 ,  5F046FA09 ,  5F046FB10 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05 ,  5F046FC08