特許

J-GLOBAL ID：200903084589413320

ポリマー基材の状態調整方法

発明者： マーク・ジエフレイ・シヤート ,  アルフレツド・ヴイーベツク
出願人/特許権者： インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイシヨン
代理人 (1件)： 頓宮 孝一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-095168
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129249
出願日： 1992年04月15日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】 酸素雰囲気を用いるエッチング法等の乾式法に起因して露出ポリマー材料に起こる酸化を克服する。【構成】 ポリマー基材を酸素含有プラズマに露出し、次に約120°C以上の高温の還元性雰囲気に露出する。この還元処理は、酸化性プラズマの作用によるポリマー表面化学の効果を逆転する。このようにして、ある種のポリマーの表面における元の電気的活性が再生される。

請求項（抜粋）：

ポリマー基材を酸素含有プラズマに露出すること;及び引き続き前記のポリマー基材を約120°C以上の高温の還元性雰囲気に露出することを包含するポリマー基材を状態調整する方法。

IPC (2件)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/324