マスク・レイアウト生成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-253183
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102659
出願日： 1992年09月22日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：

【要約】【目的】この発明の目的は、通常の設計支援装置を使用して、大規模集積回路のコンパクションを可能とするとともに、チップ面積の損失を抑えることが可能なマスク・レイアウト生成方法を提供することである。【構成】集積回路のマスク・レイアウト11を示す図形データを、先ず、複数の縦断線13に沿って複数の断片11x 〜11x +3に分割した後、それぞれをコンパクションし、これらコンパクションした断片11x 〜11x +3全体を複数の横断線14に沿って複数の断片11y 〜11y +3に分割した後、それぞれをコンパクションし、これらコンパクションした断片11y 〜11y +3をつなぎ合わせている。したがって、コンパクションは各断片毎に行うため処理上限が存在せず、大規模なマスク・レイアウトを現行の設計支援装置によって処理できる。

請求項（抜粋）：

集積回路のマスク・レイアウトを示す図形データを複数の第1の断線に沿って複数の第1の断片データに分割し、これら分割した第1の断片データをそれぞれ圧縮処理し、これら圧縮処理した第1の断片データ全体を複数の第2の断線に沿って複数の第2の断片データに分割し、これら分割した第2の断片データをそれぞれ圧縮処理し、これら圧縮処理した第2の断片データをつなぎ合わせることを特徴としたマスク・レイアウト生成方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G06F 15/60 370 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭61-264479
特開昭61-207047
特開昭63-214880

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