有機反射防止膜の組成物及びその製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-200452
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080537
出願日： 2001年07月02日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】【課題】特定の重合体を超微細パターン形成工程における反射防止膜で使用し、ウェーハ上の下部膜層の光学的性質及びフォトレジスト厚さの変動による定在波、反射及び下部膜によるCD変動を除去して、安定した超微細パターンが形成でき、製品の収率が増大できるだけでなく、また既存の有機反射防止膜とは異なりk値が自由に調節できる反射防止膜を提供する。【解決手段】以下の化学式の基本構造を有することを特徴とする化合物、これを利用した下記化学式[化1]の構造を有する有機反射防止重合体及びその合成方法、前記有機反射防止重合体を含む反射防止膜の組成物、これを利用した反射防止膜の製造方法である。【化1】

請求項（抜粋）：

以下に示す化学式[化1]の構造を有する化合物。【化1】(式中、R 、R' 、R"はそれぞれ水素またはメチル基、RaないしRd、R1ないしR18はそれぞれ-H、-OH、-OCOCH3、-COOH、-CH2OH、または炭素数1ないし5の置換若しくは非置換された直鎖若しくは分岐鎖のアルキルまたはアルコキシアルキル、m、nはそれぞれ1〜5の定数、x、y、zはそれぞれ0.01〜0.99のモル比をそれぞれ示す。)

IPC (5件)：

C08F220/28 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027 , C08F220:36 , C08F220:18

FI (5件)：

C08F220/28 , G03F 7/11 503 , C08F220:36 , C08F220:18 , H01L 21/30 574

Fターム (14件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025DA34 , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL09P , 4J100BA27R , 4J100BC48Q , 4J100CA05 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100FA28 , 4J100JA43 , 5F046PA07

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