凸版及びパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-173939
公開番号（公開出願番号）：特開2004-017409
出願日： 2002年06月14日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】パターン形成材料を精度良くかつ非接触的に転移させ、安定して基材と版を引き剥がせるようにすること。【解決手段】(1)曲面状に加工した弾性体表面に所定の凸部を形成した可尭性を有する媒体を固定してなることを特徴とする凸版の凸部に、パターン形成材料を付着させる工程、(2)前記凸版を変形させながら所定の基材に押し当てる工程、(3)前記凸版を引き上げる工程、以上(1)から(3)の工程によりパターン形成材料を基材に転写することを特徴とするパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

曲面状に加工した弾性体表面に所定の凸部を形成した可尭性を有する媒体を固定してなることを特徴とする凸版。

IPC (3件)：

B41M1/40 , G03F7/20 , H01L21/027

FI (3件)：

B41M1/40 C , G03F7/20 511 , H01L21/30 502D

Fターム (8件)：

2H097LA02 , 2H113AA01 , 2H113AA02 , 2H113AA04 , 2H113BA41 , 2H113BC00 , 2H113CA17 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭49-014212
特開昭60-034855
特開昭52-138205

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