特許
J-GLOBAL ID:200903084599879808

除振装置、デバイス製造装置、デバイス製造方法、半導体製造工場およびデバイス製造装置の保守方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-091017
公開番号(公開出願番号):特開2002-286083
出願日: 2001年03月27日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】【課題】 除振台の傾斜の影響を受けずに水平並進方向あるいは鉛直並進方向の振動のみを検出して、もって振動制御を好適に実施する。【解決手段】 除振台と、除振台に設置された振動センサと、除振台の傾斜角を検出する角度検出センサとを有し、角度検出センサの出力に基づいて振動センサの検出信号を補正し、補正した検出信号を用いて除振台の振動を抑制する。
請求項(抜粋):
除振台と、前記除振台に設置された振動センサと、前記除振台の傾斜角を検出する角度検出センサとを有し、前記角度検出センサの出力に基づいて前記振動センサの検出信号を補正し、前記除振台の振動を抑制するために前記補正した検出信号を用いることを特徴とする除振装置。
IPC (4件):
F16F 15/02 ,  G03F 7/20 521 ,  G05D 19/02 ,  H01L 21/027
FI (4件):
F16F 15/02 A ,  G03F 7/20 521 ,  G05D 19/02 D ,  H01L 21/30 503 F
Fターム (7件):
3J048AB08 ,  3J048AB11 ,  3J048AD02 ,  3J048DA01 ,  3J048EA07 ,  5F046AA23 ,  5F046DB05

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