特許
J-GLOBAL ID：200903084606225649
低温真空蒸着による多層膜の製造方法、及びその製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-210570
公開番号（公開出願番号）：特開平5-053002
出願日： 1991年08月22日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】 耐熱性の小さいプラスチック光学部品に光反射防止膜を形成する。【構成】 光学部品表面に高屈折率層、低屈折率層を蒸着によって順次積層するに当り、50〜70°Cに加熱した酸素又はオゾンを真空槽に供給する。更に、蒸着後も酸素又はオゾンを供給する。
請求項（抜粋）：
真空槽内に配設した透明光学部品基板の温度を上昇させないで、前記基板表面に金属酸化物からなる高屈折率層と、前記金属酸化物と異なる金属酸化物からなる低屈折率層とを交互に真空蒸着して前記基板表面に多層膜を形成する低温真空蒸着による多層膜の製造方法において、前記高屈折率層及び低屈折率層の蒸着中及び/又は蒸着後に50〜70°Cに加熱した酸素ガス又はオゾンガスを真空槽内に導入することを特徴とする低温真空蒸着による多層膜の製造方法。
IPC (2件)：
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