走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いるデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-282573
公開番号（公開出願番号）：特開平7-135167
出願日： 1993年11月11日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】走査露光において、原板や基板上の各点に適正露光量を与える。【構成】露光光201に対してレチクル202とウェハ206を走査することにより前記レチクルの回路パターンを投影光学系204を介してウェハ上に投影露光する走査型露光装置において、多数個のパルス光を供給するパルス光源1と、パルス光源から順次供給されるパルス光の光量を検出する光エネルギー検出部3及び測定データ記憶部4と、レチクルまたはウェハ上でのパルス光の走査方向に関する強度分布を記憶するプロファイルデータ記憶部5と、記憶部4に記憶した各パルス光の光量と記憶部5に記憶したパルス光の強度分布とを用いてレチクルまたはウェハに関する積算露光量を検出し、この積算露光量と適正露光量の差に応じてパルス光源から供給されるパルス光の光量を変える露光制御部6とを有する。

請求項（抜粋）：

露光光に対して原板と基板を走査することにより前記原板のパターンを介して前記基板を露光する走査型露光装置において、多数個のパルス光を供給する露光光供給手段と、前記露光光供給手段から順次供給されるパルス光の光量を検出する光量検出手段と、前記原板上または前記基板上での前記パルス光の前記走査の方向に関する強度分布を記憶する記憶手段と、前記光量検出手段が順次検出する光量と前記記憶手段に記憶した前記パルス光の強度分布とを用いて前記原板または前記基板に関する積算露光量を検出し、前記積算露光量と適正露光量の差に応じて前記露光光供給手段から供給されるパルス光の光量を変える露光量制御手段とを有することを特徴とする走査型露光装置。

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 516 D

引用特許：

出願人引用 (6件)

露光制御方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-053449 出願人：株式会社ニコン
露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-014482 出願人：株式会社ニコン
特開平3-179357

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審査官引用 (5件)

露光制御方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-053449 出願人：株式会社ニコン
露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-014482 出願人：株式会社ニコン
特開平3-179357

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