特許
J-GLOBAL ID：200903084644467664
反射防止組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-347528
公開番号（公開出願番号）：特開平9-236915
出願日： 1996年12月26日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：
【要約】【課題】 諸特性に優れた反射防止膜を与える水溶媒系の反射防止組成物を提供する。【解決手段】 ポリビニルアルコール樹脂を被膜形成成分とし、水を溶媒とし、かつpHが4以下の反射防止組成物。
請求項（抜粋）：
基板とフォトレジスト膜との間に塗布される反射防止組成物であって、水とポリビニルアルコール樹脂とを含み、pHが4以下の酸性であることを特徴とする反射防止組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 506
, G03F 7/11 503
, H01L 21/027
G03F 7/004 506
, G03F 7/11 503
, H01L 21/30 574
