特許

J-GLOBAL ID：200903084656232590

グラフオエピタキシー用基板の製法

発明者： 秋山 善一 ,  木村 祥子 ,  藤村 格
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 友松 英爾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-297908
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109618
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：

【要約】【目的】 グラフォエピタキシー用基板の製造において、ゾル-ゲル法の長所のみを生かし、短所を除外した新規なゾル-ゲル法利用グラフォエピタキシー用基板の製造方法を提供することにある。【構成】 母材基板上に、焼成により石英ガラスに変化することのできる前駆体のゲルを薄膜状に堆積し、つぎに凹凸模様をもつスタンパーを押しつけて型どりを行い、最后にこれを焼結することを特徴とするグラフォエピタキシー用基板の製法。

請求項（抜粋）：

母材基板上に、焼成により石英ガラスに変化することのできる前駆体のゲルを薄膜状に堆積し、つぎに凹凸模様をもつスタンパーを押しつけて型どりを行い、最后にこれを焼結することを特徴とするグラフォエピタキシー用基板の製法。

IPC (3件)：

H01L 21/20 ,  H01L 27/12 ,  H01L 21/02