特許
J-GLOBAL ID：200903084672381171
荷電粒子ビーム露光装置の調整方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-262662
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122471
出願日： 1993年10月20日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 電子ビーム露光装置の調整方法に関し、装置使用中に露光を中断して行う装置調整の時間を短縮する。【構成】 電子銃11が射出した電子ビーム12をビーム成形板13が矩形断面に成形し、ビーム成形板13の像を第一レンズ14が透過孔を持つマスク板17上に結像する露光装置の使用開始後の再調整であって、先ずマスク板17上に結像されたビーム成形板13の像のサイズを計測してこれを露光装置の電源投入後の立ち上げ調整完了時に予め計測した同様の像のサイズと比較してその変化量を算出し、次に第一レンズ14の動作電流値を段階的に増減してその都度前記像のサイズを計測するとともに立ち上げ調整完了時の前記像のサイズとの変化量のマップを取得し、第一レンズ14の動作電流値を前記像のサイズの変化量が極小となる値に変更する。
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビーム発生手段(11)と、該荷電粒子ビーム発生手段(11)が射出した荷電粒子のビーム(12)を成形するビーム成形板(13)と、任意形状の透過孔を少なくとも一個備えたマスク板(17)と、該ビーム成形板(13)で成形されたビーム(12)を該マスク板(17)上に結像させる第一レンズ(14)と、を有する荷電粒子ビーム露光装置の調整方法であって、該露光装置の電源投入後の立ち上げ調整完了時に該マスク板(17)上に結像された該ビーム成形板(13)の像のサイズを計測する工程と、その後、該露光装置使用中に該サイズを計測するとともに該立ち上げ調整完了時における該サイズと比較して変化量を算出する工程と、該第一レンズ(14)の動作電流値を増加及び減少してその都度該サイズを計測するとともに該立ち上げ調整完了時における該サイズと比較して変化量のマップを取得する工程と、該マップから該サイズの変化量が極小となる該第一レンズ(14)の動作電流値を算出する工程と、該第一レンズ(14)の動作電流値を該サイズの変化量が極小となる値に変更する工程と、を含むことを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置の調整方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
