特許
J-GLOBAL ID：200903084674417270
磁性体含有層の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126390
公開番号（公開出願番号）：特開平7-233488
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】本発明は磁性体含有層をマスクパタ-ンを用いることなく、エッチングする方法を提供する。【構成】 基板11上に磁性体含有層12を形成し、磁性体含有層12のエッチング予定領域の表面を磁気ヘッド13を用いて走査し、磁性体の磁気分極方向を揃える。磁性体含有層12を磁性体の磁気分極方向の揃った強磁性体領域12aと磁気分極方向のバラバラな弱磁性体領域12bとに分離し、その後、それら2つの領域の磁界の強弱に起因するエッチングレ-トの差を用いて、強磁性体領域12aをエッチング除去する。
請求項（抜粋）：
基板上に磁性体含有層を形成する工程と、上記磁性体含有層のエッチング予定領域の磁性体の磁気分極の方向を揃える工程と、上記エッチング予定領域を選択的にエッチング除去する工程とを具備することを特徴とする磁性体含有層の製造方法。
IPC (2件)：
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