特許
J-GLOBAL ID：200903084678900618
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-315281
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169431
出願日： 1993年12月15日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【構成】 ビーム走査領域内に設置されたドーズファラデ11およびビームファラデ12と、上記両ファラデ11・12にそれぞれ流入するビーム電流を個々に計測するビーム電流計測回路13と、上記両ファラデ11・12にそれぞれ流入するビーム電流の計測値の比率の変化から、ビームドリフトの有無を検出する注入コントローラ24とを備えている。【効果】 注入処理中、連続して、ドーズファラデ11とビームファラデ12との両ファラデーカップに流入するビーム量を独立に計測し、それらの計測値の比率をチェックすることにより、従来検出不可能であったビームドリフトが検出可能となり、ビームドリフトに起因する注入再現性の悪化を未然に防止できる。
請求項（抜粋）：
イオンビームを走査させるビーム走査手段を備え、イオンビームを走査させながらビーム照射対象物にビームを照射してイオン注入処理を行うイオン注入装置において、ビーム走査領域内に設置された複数のビーム計測部と、上記複数のビーム計測部にそれぞれ流入するビーム電流を個々に計測するビーム電流計測手段と、上記複数のビーム計測部にそれぞれ流入するビーム電流の計測値の比率を求め、注入処理中の上記の比率の変化から、ビームドリフト発生の有無を検出するビームドリフト検出手段とを備えていることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01J 37/04
, H01L 21/265
