特許
J-GLOBAL ID:200903084705900129
位置測定システムおよびリソグラフィ装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
, 浅村 皓
, 浅村 肇
, 田中 正
, 森 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-237166
公開番号(公開出願番号):特開2007-071874
出願日: 2006年09月01日
公開日(公表日): 2007年03月22日
要約:
【課題】オブジェクトの位置を測定する位置測定システムを提供する。【解決手段】システムは、基準フレームとオブジェクトの間の距離で第一数の第一距離ステップを測定する第一増分値測定ユニットを含み、第一数は第一整数に第一端数を加算した値に等しく、さらに基準フレームとオブジェクトの間の距離で第二数の第二距離ステップを測定する第二増分値測定ユニットを含み、第二数は第一整数に第二端数を加算した値に等しく、位置測定システムが、第一数および第二端数に基づいて第二増分値測定ユニットを初期化するように構築され、配置構成される。【選択図】図3a
請求項(抜粋):
オブジェクトの位置を測定する位置測定システムであって、
基準フレームとオブジェクトの間の距離内で第一数の第一距離ステップを測定する第一増分値測定ユニットを有し、第一数は、第一整数値に第一端数を加えた値に等しく、さらに、
基準フレームとオブジェクトの間の距離内で第二数の第二距離ステップを測定する第二増分値測定ユニットを有し、第二数は、第二整数に第二端数を加えた値に等しく、
位置測定システムが、第一数および第二端数に基づいて第二増分値測定ユニットを初期化するように構築され、配置構成される位置測定システム。
IPC (2件):
FI (2件):
G01B11/00 A
, H01L21/30 503B
Fターム (30件):
2F065AA02
, 2F065AA03
, 2F065AA06
, 2F065AA09
, 2F065AA14
, 2F065AA20
, 2F065BB02
, 2F065BB15
, 2F065CC17
, 2F065DD03
, 2F065FF02
, 2F065FF16
, 2F065FF18
, 2F065FF52
, 2F065FF55
, 2F065GG04
, 2F065JJ01
, 2F065JJ05
, 2F065KK02
, 2F065LL28
, 2F065NN20
, 2F065PP12
, 2F065QQ25
, 2F065QQ27
, 2F065QQ41
, 2F065TT08
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC16
, 5F046DB05
引用特許:
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